2025-627
無(wú)掩膜光刻（MasklessLithography），也被稱為直寫(xiě)光刻（Direct-WriteLithography），是一種不同于傳統(tǒng)光刻技術(shù)的先進(jìn)制造工藝。在傳統(tǒng)的光刻過(guò)程中，需要使用預(yù)先設(shè)計(jì)好的掩膜版來(lái)定義圖案，這些掩膜版成本較高且制作時(shí)間較長(zhǎng)。相比之下，無(wú)掩膜光刻直接通過(guò)計(jì)算機(jī)控制光束（如電子束、離子束或激光）在光敏材料（光刻膠）上繪制所需的微細(xì)圖案，無(wú)需使用物理掩膜版。無(wú)掩膜光刻的主要特點(diǎn)：1、靈活性高：由于不需要物理掩膜，可以在短時(shí)間內(nèi)對(duì)圖案進(jìn)行修改和調(diào)整，特別...
查看更多2025-627
光子引線鍵合（PhotonicsWireBonding）是一種先進(jìn)的集成光學(xué)技術(shù)，旨在實(shí)現(xiàn)光子集成電路（PhotonicIntegratedCircuits,PICs）之間的高效連接。這項(xiàng)技術(shù)是傳統(tǒng)電子引線鍵合的一種光學(xué)類比，但其目的是在保持或提高光學(xué)性能的同時(shí)，提供靈活、緊湊的光路互連解決方案。光子引線鍵合通常涉及到使用一種特殊的聚合物材料或者通過(guò)直接寫(xiě)入的方式（比如利用飛秒激光直寫(xiě)技術(shù)），在兩個(gè)光子元件之間構(gòu)建出一條具有精確幾何形狀和折射率分布的波導(dǎo)路徑。這種路徑能夠有效...
查看更多2025-624
無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻設(shè)備定義為一種無(wú)需物理掩膜版、通過(guò)計(jì)算機(jī)控制的高精度光束（如激光束或數(shù)字微鏡器件）直接在光刻膠或感光材料的基材上曝光圖形的微納加工設(shè)備，適用于微納米級(jí)圖形制備。其核心技術(shù)基于光學(xué)或帶電粒子束（如激光直寫(xiě)、DMD投影）直接掃描或投影圖案，消除了掩膜版制作環(huán)節(jié)，實(shí)現(xiàn)高精度圖形轉(zhuǎn)移。設(shè)備的核心優(yōu)勢(shì)包括高靈活性、快速原型制造能力，以及顯著降低研發(fā)成本和時(shí)間周期。主要應(yīng)用于科研機(jī)構(gòu)、實(shí)驗(yàn)室及小批量工業(yè)原型制造（如微流控芯片、半導(dǎo)體器件開(kāi)發(fā)）。?工作原理?：?激光直寫(xiě)技術(shù)?...
查看更多2025-613
在半導(dǎo)體芯片尺寸不斷縮小、集成度持續(xù)提升的今天，傳統(tǒng)電弧焊接或超聲鍵合技術(shù)逐漸面臨精度與熱損傷的瓶頸。而一種基于光子學(xué)的新興技術(shù)——光子引線鍵合打印系統(tǒng)，正以“光為刀、精度為尺”的方式，重新定義微納尺度下的連接工藝。它通過(guò)飛秒激光的冷加工特性與納米級(jí)定位系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了芯片引線鍵合的超高精度、低損傷與高效率，成為先進(jìn)封裝領(lǐng)域的重要突破口。一、技術(shù)原理：光與物質(zhì)的“精準(zhǔn)對(duì)話”光子引線鍵合的核心在于利用飛秒激光的物理特性。飛秒激光脈沖時(shí)間短（1飛秒=10?1?秒），能量瞬間釋放，足以...
查看更多2025-611
一、引言全自動(dòng)顯影機(jī)是半導(dǎo)體制造工藝中設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、LED、顯示面板等領(lǐng)域。它通過(guò)自動(dòng)化流程實(shí)現(xiàn)光刻膠的涂布和顯影，確保半導(dǎo)體器件的質(zhì)量和性能。二、工作原理全自動(dòng)顯影機(jī)的工作原理基于光刻膠的涂布和顯影過(guò)程。首先，通過(guò)涂膠單元將光刻膠均勻地涂布在晶圓表面。隨后，經(jīng)過(guò)曝光處理的晶圓進(jìn)入顯影單元，顯影液通過(guò)噴嘴均勻噴淋在晶圓表面，溶解未曝光的光刻膠，形成所需的圖案。三、技術(shù)特點(diǎn)（一）高精度控制具備高精度的涂膠和顯影控制能力，能夠?qū)崿F(xiàn)片內(nèi)均勻性小于3%，顯影均勻性小于5%...
查看更多2025-429
MJ-Works-Fiber是一款專為光纖傳感與光通信應(yīng)用而生的超高精度加工而設(shè)計(jì)的高性能3D激光直寫(xiě)設(shè)備，配有超清成像及納米級(jí)定位對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)在光纖纖芯或光芯片表面及內(nèi)部進(jìn)行納米級(jí)3D加工。配備有專門的卷對(duì)卷光纖自動(dòng)輸送裝置，并配有應(yīng)力監(jiān)測(cè)，纖芯自動(dòng)識(shí)別、定位及對(duì)準(zhǔn)，實(shí)現(xiàn)高通量精準(zhǔn)快速生產(chǎn)。主要特點(diǎn)：復(fù)雜3D微光學(xué)元件、激光能量穩(wěn)定系統(tǒng)、高能飛秒激光脈沖改性、支持光纖和光纖陣列、高精度纖芯定位、光纖專用夾具、實(shí)時(shí)超清顯微成像、光斑整形。激光直寫(xiě)是制作衍射光學(xué)元件的主要技...
查看更多2025-315
在現(xiàn)代印刷和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，自動(dòng)顯影機(jī)作為一種高效的自動(dòng)化設(shè)備，正逐漸成為提升生產(chǎn)效率、確保產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵工具。它不僅廣泛應(yīng)用于傳統(tǒng)的印刷行業(yè)，還在微電子制造、納米材料制備等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。一、工作原理與系統(tǒng)組成自動(dòng)顯影機(jī)的主要功能是將曬制好的印版或光刻膠版通過(guò)顯影、沖洗、涂膠、烘干等工序一次性完成處理。其核心工作原理是利用化學(xué)顯影液將曝光后的感光層溶解，從而顯現(xiàn)圖像或電路圖案。設(shè)備通常由以下幾個(gè)關(guān)鍵系統(tǒng)組成：1.傳動(dòng)系統(tǒng)：通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)傳送輥和壓膠輥，引導(dǎo)印版或硅片在顯影...
查看更多2025-219
在微納制造領(lǐng)域，三維直寫(xiě)光刻機(jī)正以其技術(shù)優(yōu)勢(shì)，開(kāi)啟微結(jié)構(gòu)制造的新紀(jì)元。這種將精密光學(xué)與智能控制結(jié)合的設(shè)備，正在重新定義微納加工的邊界。三維直寫(xiě)光刻機(jī)的核心技術(shù)在于其創(chuàng)新的光路系統(tǒng)。采用數(shù)字微鏡器件(DMD)和高精度物鏡組，結(jié)合三維運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)的精確成型。在生物醫(yī)療領(lǐng)域，這種技術(shù)使得微流控芯片的制造成為可能；在光子晶體研究中，它實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)加工。在性能特點(diǎn)上，三維直寫(xiě)光刻機(jī)展現(xiàn)出三大技術(shù)優(yōu)勢(shì)：首先是加工精度高，可實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)的分辨率；其次是靈活性好，...
查看更多
掃碼加微信
當(dāng)前位置：
